書籍販売トップへ 新刊本 化学関連書籍 材料・高分子 関連書籍 環境関連書籍 化学装置 関連書籍 測定関連書籍 設計・機械 関連書籍 医学・薬学 関連書籍 経営・投資 関連書籍 電気関連書籍 その他書籍			＊このページからお買い求めいただけます。 ＊書籍毎に購入数を半角で記入し、「カゴに入れる」ボタンをクリックしてください。 購入数 最新プラズマ発生技術 −次世代プロセシングプラズマの開発− 本書の特色 放電周波数別プラズマの生成法と特色を実験データに基づいて丁寧に解説 磁界を用いた高性能プラズマプロセス技術の集大成 リジターノコイル型ECR、ホイッスラー型、パルスRF、ハイブリッド、大面積走査型、新型マグネトロン、ホロー陰極放電などの次世代高性能プラズマの研究の現状 PECVD、スパッタ、イオンプレーティングなどの薄膜生成を始め、エッチング、表面処理技術に至る幅広いプロセス技術の高性能化に対応 経験に頼るプロセスから、再現性に富んだ高性能プロセスへの脱皮を狙う研究者に必読の書。 監修 河合　良信（九州大学大学院総合理工学教授） 著者 渡辺　征夫（九州大学工学部教授） 藤田　寛治（佐賀大学理工学部教授） 藤山　寛 （長崎大学工学部教授） 体裁／価格 体裁:B５判 250頁 定価：本体35,000円＋税 コードNo. 381 目次 【第１章】プロセスプラズマの基礎 【第２章】直流および低周波放電プラズマ 【第３章】高周波（RF）およびパルス放電プラズマ 【第４章】マイクロ波プラズマ 付録１プローブ計測法 付録２発光分光分析 付録３レーザ誘起蛍光法の原理 購入数