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ゾルゲル法の技術的課題とその対策
本書の特色
  1. 急速に注目を集めてきたガラス合成の研究について、基礎より応用について解説する。
  2. ゾルゲル法によるガラス製品の実用化、特にバルクガラス製品への学問的、実際的両側面より問題点の解明をする。
  3. ゾルゲル法で最も重要な技術的課題は何か、解決の見通しは、又応用面はどうかについて解説されている。
  4. ゾルゲル研究会約20名の研究者、技術者が将来の展望を開くべき研究を行った一年間の成果をここに公開する。
監修 山根 正之(東京工業大学工学部教授)
著者 樋口 一明(コルコート轄成科学部)
阿部 芳首(東京理科大学理工学部工業化学科)
安盛 敦雄(東京工業大学工学部無機材料工学科)他20名
体裁/価格 B5判 380頁
定価:本体46,000円+税
コードNo. 353
目次
【第1章】基礎技術
1.1 アルキルシリケートの物性と関連技術
 1.2 SiO2-MxOy系セラミックス前駆体としてのポリメタロシロキサンの合成と性質
 1.3 シリコンアルコキシド溶液のゾルゲル転移と触媒の影響
 1.4 ゲルの収縮挙動
 1.5 ゲルの細孔制御
 1.6 無機−有機光機能材料の検討
【第2章】ガラスへの応用
 2.1 シリカエアロゲルの作製とガラス化
 2.2 ゾルゲル法による大型シリカガラスの製造
 2.3 多成分系塊状けい酸塩ガラスの作製
 2.4 屈折率分布型シリカ系レンズの作製
 2.5 VLSI封止材用合成シリカフィラー
【第3章】薄膜コーティング
 3.1 ガラスレーザシステムにおけるゾルゲルコーティング
 3.2 V2O5ゲル薄膜
 3.3 エレクトロクロミズムを示すガラスセラミックス膜の作成と物性(変則的なゾルゲル法)
 3.4 多孔質ガラスの細孔表面へのシリカゲルの固定
 3.5 雲母・シリカゲル複合膜の作製
【第4章】セラミックスへの応用
 4.1 金属アルコキシドを利用するセラミックスの開発
 4.2 サブミクロン粒子の合成
 4.3 超電導セラミックスの作製
 4.4 マシナブルセラミックスの製造
【第5章】関連材料および製品その他
 5.1 シリカガラス88
 5.2 光学ガラス
 5.3 屈折率分布型レンズの光学特性と応用
 5.4 ゾルゲル法によるニューガラスに関する文献調査
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