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- 熱分解法（加水分解法）による、透明導電膜の合成法法の技術の進歩の現状を明らかにし、今後の発展の方向を示すことを目的としている。
- 各執筆者が、これまでの研究成果に基づき合成方法を示し、その性能を評価している。さらに気相法、固相法、および他の液相法（スプレー法・共沈法）によるものと比較し、その特長を明確にしている。
- 新たな用途開発と、今後の高性能化と成膜方法の高効率化の研究に指針を与えることが期待される。さらに、原料溶液の設計と塗布・焼成方法および性能の相関関係が浮き彫りにされれば、透明導電膜にとどまらず、機能性セラミック薄膜の一般的な原料溶液設計法と塗布・焼成方法も明らかになり、この熱分解法を広く各種機能性セラミック薄膜の合成とするための基礎の確立にもつながることが期待される。
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著者 |
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丸山 敏郎（京都大学工学部教授）他6名 |
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体裁／価格 |
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B５判 210頁
定価：本体47,000円＋税
コードNo. 346 |
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【第２章】透明導電性薄膜 |
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2.1 透明伝導性セラミック薄膜
2.2 特性と用途
2.3 種類
2.4 構造と透明導電性
2.5 ITO薄膜の基本物性
2.6 SnO2薄膜の基本物性 |
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【第３章】透明導電性薄膜の作製法 |
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3.1 はじめに
3.2 成長法
3.3 塗布形成法
3.4 パターンの塗布形成 |
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【第４章】熱分解法による透明導電性薄膜の形成条件 |
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4.1 原料系
4.2 熱処理の条件
4.3 基板の条件 |
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【第５章】熱分解法による透明導電性薄膜形成方法 |
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5.1 はじめに
5.2 原料溶液の調製
5.3 基板への塗布
5.4 熱処理
5.5 膜厚の制御
5.6 原料溶液の保存 |
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【第６章】膜の特性測定法 |
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6.1 電気的特性
6.2 光学的特性
6.3 透明導電性の性能指数 |
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【第７章】熱分解法によるITO膜 |
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7.1 はじめに
7.2 成膜方法
7.3 膜の構造と特性
7.4 おわりに |
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【第８章】ITO透明導電性薄膜用塗布液 |
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8.1 はじめに
8.2 塗布液
8.3 膜物性
8.4 成膜条件 |
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【第９章】熱分解法によるSnO2:F膜 |
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9.1 はじめに
9.2 成膜方法
9.3 膜の構造と特性 |
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【第10章】塗布法によるSnO2膜 |
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10.1 はじめに
10.2 作製プロセス
10.3 原料
10.4 作製条件とSnO2膜特性
10.5 他製法とSnO2との比較
10.6 塗布法ATO膜の抵抗変化 |
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【第11章】熱分解法による酸化錫系透明導電性薄膜 |
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11.1 はじめに
11.2 透明導電性薄膜形成溶液FATO,FTOの開発経緯と製品の特徴
11.3 薄膜の作製法
11.4 膜の物性測定方法
11.5 薄膜の作製条件と特性 |
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【第12章】熱分解法による多孔質ATO膜 |
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12.1 はじめに
12.2 成膜方法
12.3 ATO膜の評価法
12.4 ATO膜の特性に及ぼす各種因子の影響 |
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【第13章】熱分解法による酸化物高温超伝導膜 |
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13.1 はじめに
13.2 YBa2Cu3O7-x超伝導膜
13.3 Bi-Sr-Ca-Cu-O系超伝導膜
13.4 Bi-Pb-Sr-Ca-Cu-O系超伝導膜 |
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【第14章】熱分解によるSiO2膜 |
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14.1 はじめに
14.2 成膜方法
14.3 膜の構造と特性 |
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【第15章】LPD法によるSiO2膜 |
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15.1 はじめに
15.2 LPD法によるSiO2膜の形成
15.3 LPD法SiO2膜の性質
15.4 透明電極下地膜への応用 |
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【第16章】熱分解法によるZnS膜 |
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16.1 はじめに
16.2 成膜方法
16.3 膜の構造と特性 |
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